LEITERPLATTEN SERVICE-STATION - eine Gesellschaft der Brautmeier GmbH

Chemisch vernickeln/vergolden, Chemisch verzinnen, Hot Air Levelling (HAL)

Leiterplatten – Chemisch Zinn

Chemisch Zinn

Um die Nachteile der Schichtdickenschwankung im HAL Verfahren zu minimieren und eine bleifrei Oberfläche zu erhalten, wurde ein neues Verfahren entwickelt, das Chemisch Zinn Verfahren. Mittlerweile sind moderne Elektrolyte im Einsatz, welche durch positive Eigenschaften überzeugen. Nennenswert sind hierbei:
Feinkörnigkeit, Porenfreiheit, gute Lagerfähigkeit und planer/ebener Aufbau.

In diesem Verfahren wird die gereinigte und geätzte Platine in ein chemisches Bad getaucht. Durch eine chemische Reaktion werden Kupferatome gegen Zinnionen ausgetauscht und es wächst die Zinnschicht. Auch hier erfolgt anschließend eine Reinigung und Trocknung der Platinen.

Schichteigenschaften und Einsatzgebiete
Stanntech 2000V-Verfahren (Atotech)

Schichteigenschaften Zinn
Schichtdicke 0,8 – 1,4 µm
Struktur feinkristallin
Dichte ca. 7,32 g/cm³
Schichtverteilung eben
Thermostress stabil
Anwendungsmöglichkeiten
durchkontaktierte Leiterplatten
SMD
Einpreßtechnik
Fineline / Finepitch
Klebetechnik
Löteigenschaften
Mehrfachlötung in 02 – Atmosphäre
Mehrfachlötung in N2 – Atmosphäre
6 Monate bei sachgemäßer Lagerung
Lötstopmaskenverträglichkeit
gegeben in Abhängigkeit von der Verarbeitung für marktübliche Lötstopmasken
stabil gegen Kennzeichenfarben
stabil gegen Abdecklacke
Zu verarbeitende Platinenmaße
Min: 100 mm x 160 mm
Max: 610 mm x 850 mm
Platinenstärke max. 10 mm (Abhängig von dem min. Bohrungsdurchmesser)
Abweichende Platinenmaße auf Anfrage
Lagerfähigkeit
6 Monate bei sachgemäßer Lagerung